一、电催化还原二氧化碳的原理

一种由2,3,9,10,16,17,23,24-八羟基酞菁铜（II）（PcCu-(OH)8）配体和平面四边形配位的CuO4节点构筑的金属-有机框架（PcCu-Cu-O）作为电催化剂。

电催化测试结果表明，在0.1 M碳酸氢钾水溶液中，–1.2V vs RHE的电压下，PcCu-Cu-O表现出高达50(1) %的乙烯法拉第效率以及7.3 mA cm–2的电流密度。

这一选择性高于目前所有MOF及其衍生物材料，甚至高于绝大多数铜基化合物。

在持续电解催化4小时的过程中，PcCu-Cu-O始终保持稳定的电流密度。

二、光电催化二氧化碳还原的机理？

光催化还原二氧化碳的机理，一般半导体光催化剂上的光催化二氧化碳还原的典型过程由五个步骤组成:光吸收,电荷分离,CO2吸附,表面氧化还原反应和产物解吸。 第一步是吸收光子产生电子和空穴对

一般半导体光催化剂上的光催化二氧化碳还原的典型过程由五个步骤组成：光吸收，电荷分离，CO2吸附，表面氧化还原反应和产物解吸。第一步是吸收光子产生电子和空穴对。第二步是光电子和空穴的空间分离。这个过程与电荷复合直接竞争。光催化反应完成后，最后一步是产物解吸。如果产品不能及时从催化剂表面释放，则终止反应。

三、关于MCS-51单片机应用的国内外现状和发展趋势以及研究方向？

单片机也就那几个发展趋势：

1，多功能

2，高效率和高性能

3，低电压和低功耗

4，低价格

我认为51也不例外的。